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鍍錫銅排

發布日期:2019-05-11 作者: 點擊:



 2.1.工藝( technology)成熟.操作(operate)周期短,普遍采用。鋁排鍍錫可專門用于替代銅排,鋁排。廣泛應用于。自動化,冶金,高低壓電器,建筑行業及冶金行業。該產品采用國外先進的雙金屬復合材料技術,質量穩定性能可靠是一種高科技的節能型產品。鋁排鍍銅鋁排鍍銅是一種以鋁為基體,外層包覆銅,使他們之間形成永久性原子間冶金結合的雙金屬,表面光亮,圓整,無缺陷。它是將銅的高質量穩定導電性能與鋁的低成本的能源,以較低的接觸電阻,結合為一體的新型導體材料。銅排鍍錫銅排鍍錫是指銅排局部或整體鍍錫,無需加溫,無需電鍍槽,工藝簡單,易操作,操作非常方便,正、負換向開關設在前面板,上、下撥動開關,即快速實現換向鋁排鍍錫良好的力學性能:具有良好的抗拉強度,可彎曲性和延伸率。良好的延展性和可靠性:經過特殊的熱處理工藝,具有一定的可塑性,有利于沖孔、剪切、彎曲加工產品不開裂、不分離。為了提高抗腐蝕性能,可在銅層表面進行鍍錫、鍍鋅處理。銅排鍍錫體現的最大優點是節電(效率90%)、節時(時間只需原整流機的三分之二,甚至更短)節料(原材料可同時節省30%)、高效(每個工段可提高產值三分之一以上)。
  2.2.弱點:時間長了表面發暗,人手做不到。不環保(Environmental protection)!
  2.3.工藝流程
  2.3.1.表面拋光(解釋:磨擦使物體(如金器)光滑的過程)除油等前處理(processing)→純水洗→鍍高Pb-Sn合金個自來水洗→純水洗→鍍錫→自來水噴洗→中和(Na2HPO4+Na3PO4)→自來水噴洗→浸硬脂酸(Acerbity)→自來水噴洗→熱純水浸洗→烘干。
  2.4.銅(化學式Cu)排表面處理工藝拋光:無論是人工還是機械(machinery)都慢,而且累,粉塵很嚴重,清理表面氧(Oxygen)化皮,微小毛刺。(用石英砂(性質:硅酸鹽礦物),玻璃(Glass)丸)。
  2.5.鍍液各成分(ingredient)作用(role)及工藝流程
  2.6.光亮硫酸鹽鍍錫液主要成分為硫酸亞錫和硫酸,生產(Produce)中其含量隨所采用的添加劑不同而不同。
  2.6.1.硫酸亞錫為主鹽,含量十般控制(control)在40~100g/L。但生產實驗結果表明,高濃度(concentration)硫酸亞錫雖然可以提高陰極(cathode )電流(Electron flow)密度,加快沉積速度,但使鍍液分散能力明顯下降(descend),且使鍍層結晶粗、光亮區域變小,甚至大大縮短了鍍液的處理周期。
  2.6.2.SnSO4含量控制在20~60g/L為宜,若取下限,可以通過加快鍍液循環(continue)速度及電極(electrode)(陰極或陽極(anode))移動速度等辦法進行“補償”,仍可鍍出優良產品(Product),但不宜過低。
  2.7.硫酸具有降低(reduce)亞錫離子(ion)的活性、防止其水解、提高鍍液導電性能及陽極電流效率等作用。當硫酸量不足時,亞錫離子易氧化(oxidation)成四價錫。
  2.8.從動力技術的觀點分析(Analyse),當有足夠的H2SO4時,可以減慢二價錫的水解,穩定(解釋:穩固安定;沒有變動)鍍液,實際生產中H2SO4含量一般在80~150mL/L。


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